美國(guó)ZYGO 激光干涉儀Verifire HDX激光干涉儀是為超高精度的光學(xué)元件和系統(tǒng)設(shè)計(jì)和制造的，可以獲得元件表面的中頻特征信息。系統(tǒng)包含現(xiàn)有Verifire HD的所有功能-比如QPSI和長(zhǎng)壽命穩(wěn)頻的激光器，并增加了重要的增強(qiáng)功能，如刷新行業(yè)水平的分辨率和成像能力，儀器傳遞函數(shù)（ITF）、出眾的中頻特征分析和大坡度表面測(cè)試，同時(shí)也兼具了ZYGO DynaPhase®系列動(dòng)態(tài)采集技術(shù)，可以去除震動(dòng)引起的問題并且能夠在近乎任何環(huán)境中精準(zhǔn)計(jì)量。

特殊設(shè)計(jì)優(yōu)化的分辨率和性能

美國(guó)ZYGO 激光干涉儀Verifire HDX激光干涉儀系統(tǒng)具有全新的光學(xué)設(shè)計(jì)，經(jīng)過嚴(yán)格設(shè)計(jì)，可為其所配的3.4kx 3.4k（1160萬像素）傳感器提供突破像素限制的性能，呈現(xiàn)增強(qiáng)的圖像，可以顯示出較低分辨率干涉儀難以辨識(shí)的表面特征。這種超高的空間分辨率不會(huì)以犧牲速度為代價(jià)，該系統(tǒng)在全分辨率下以幀率96 Hz運(yùn)行，比其它高分辨率干涉儀速度快10倍，那些由于采樣速度較慢在采樣的時(shí)候會(huì)引入震動(dòng)誤差從而測(cè)試能力受限。

功率譜密度（PSD）和衍射分析工具完善了Verifire HDX激光干涉儀系統(tǒng)的中頻特征分析能力，并通過簡(jiǎn)單直觀的用戶界面來分析和報(bào)告綜合表面特性。

光學(xué)面形測(cè)試下的中頻特征分析

高質(zhì)量的參考光學(xué)元件和配件

UltraFlat™和UltraSphere™超高精度透射平面和球面，面形可以達(dá)到λ/40 PVr或更高，并且嚴(yán)格控制PSD特征進(jìn)行制造，以*優(yōu)化中頻特征。推薦將這些高精度參考光學(xué)元件與Verifire HDX激光干涉儀一起配合使用，以完整實(shí)現(xiàn)和提升系統(tǒng)的性能。無論它們是被用于垂直構(gòu)型還是水平構(gòu)型，UltraFlat透射平板面形精度不變，從而在測(cè)試設(shè)置中提供更大的靈活性。

超高精度平面和球面透射元件

Mx™ 軟件

ZYGO自主設(shè)計(jì)研發(fā)的Mx™分析軟件提供強(qiáng)大的操作功能和完整的數(shù)據(jù)分析功能，包括Zernike，斜率，PSD / MTF / PSF，棱鏡角度，角錐以及更多。該軟件集儀器控制，數(shù)據(jù)采集和分析軟件包與一體，集成了制造過程控制，運(yùn)行自動(dòng)化和報(bào)告關(guān)鍵中頻特征等工具包。軟件操作界面簡(jiǎn)單，直觀。它還包括了基于Python的腳本和遠(yuǎn)程控制接口，以實(shí)現(xiàn)更大的靈活性并集成到復(fù)雜的測(cè)試設(shè)置中。

Mx軟件，澤尼克分析結(jié)果

ITF儀器傳遞函數(shù)-它是什么，為什么它是重要的

很多年來，大家一直關(guān)注于光學(xué)元件表面的形狀誤差，但隨著對(duì)光學(xué)系統(tǒng)性能需求的增加，控制中頻特征（MSF）也變得同樣重要。對(duì)于一些*高性能應(yīng)用，需要嚴(yán)格控制MSF特性以減少光散射并提高光學(xué)效率。

在校正形狀誤差方面非常有效的小工具確定性拋光技術(shù)也會(huì)將不期望得到的中頻特征賦予光學(xué)表面。根據(jù)表面特性的頻率和斜率，傳統(tǒng)的干涉儀系統(tǒng)-非常適合測(cè)量表面形狀-由于分辨率有限，無法測(cè)量和量化較高頻率的表面特性。分辨率的缺失意味著更高的頻率細(xì)節(jié)被過濾（見右圖），并且在測(cè)量結(jié)果中可能根本不顯示。

這是儀器傳輸函數(shù)（ITF）的所在。激光干涉儀系統(tǒng)由于其自身的設(shè)計(jì)（光學(xué)設(shè)計(jì)，相機(jī)，波長(zhǎng)）會(huì)衰減和過濾部分表面信息，決定了該系統(tǒng)的ITF （測(cè)量光學(xué)表面的空間頻譜的能力）。Verifire HDX激光干涉儀系統(tǒng)具有高分辨率3.4k x 3.4k傳感器和優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì)，具有比任何商業(yè)上可獲得的干涉儀系統(tǒng)更高的ITF，使其成為可靠測(cè)量和量化光學(xué)表面中頻特性的寶貴工具。這為光學(xué)設(shè)計(jì)師們提供了一種新能力，可以自信地*定光學(xué)表面到更高精度，并定義ITF測(cè)試要求來達(dá)到系統(tǒng)性能目標(biāo)。

用特殊設(shè)計(jì)的臺(tái)階板測(cè)量到的相位數(shù)據(jù)，臺(tái)階板上刻有密集的40nm臺(tái)階，按不同頻率沿著徑向發(fā)散變化。