奧林巴斯 OLS5100 顯微鏡：材料分析利器
在材料分析的微觀世界里，奧林巴斯 OLS5100 激光共聚焦顯微鏡宛如一位精準的探索者，為科研人員和工程師們開啟了深入研究的大門。
OLS5100 專為失效分析和材料工程研究而設計。其采用反射型共聚焦激光掃描原理，配備 405nm 激光光源。短波長的 405nm 激光相較于傳統的可見光（峰值 550nm），賦予了顯微鏡更優秀的橫向分辨率，能夠清晰捕捉到樣品表面極細微的紋理和缺陷 。在光學系統方面，它擁有彩色成像和激光共聚焦兩套系統。彩色成像光學系統利用白光 LED 光源和 CMOS 圖像傳感器獲取信息，呈現出樣品的彩色外觀；激光共聚焦光學系統則借助 405nm 激光二極管光源和高靈敏度光電倍增管，獲得樣品的 3D 輪廓信息和高清圖像，僅接收通過圓形針孔聚焦的光線，有效消除模糊，實現比普通顯微鏡更高的圖像對比度 。
這款顯微鏡在性能上表現。它能夠輕松實現亞微米級 3D 觀察與測量，可對納米范圍內的臺階進行細致觀察，精確測量亞微米級的高度差。在表面粗糙度測量方面，符合 ISO25178 標準，無論是線粗糙度還是面粗糙度都能精準測定。而且，它采用非接觸、無損的測量方式，操作快捷，只需將樣品放置在載物臺上，即可開啟測量之旅，避免了傳統接觸式測量對樣品可能造成的損壞 。
從參數來看，OLS5100 的綜合倍率在 54x ～ 17280x 之間，視場范圍為 16 µm ～ 5,120 µm。其測量原理基于先進的光學系統，在多種型號中，如 OLS5100-SAF、OLS5100-SMF 等，都展現出了穩定而出色的性能。在材料分析中，它可用于金屬材料的微觀結構觀察，分析其晶粒大小、晶界情況，幫助研究人員了解材料的性能與加工工藝之間的關系；在半導體材料研究里，能對芯片表面的微電路結構進行測量和分析，助力提升芯片制造的精度和質量 。
在使用時，操作人員只需將樣品妥善放置在載物臺上，按下 “開始" 按鈕，顯微鏡便會自動進行后續操作。智能掃描 II 功能讓新手和經驗豐富的用戶都能快速上手，輕松獲取數據。PEAK 算法用于構建 3D 數據，不僅可獲得從低倍率到高倍率的高精度數據，還能大幅縮短數據采集時間 。
總的來說，奧林巴斯 OLS5100 激光共聚焦顯微鏡以其先進的技術、出色的性能和便捷的操作，在材料分析領域發揮著重要作用，為科研和生產提供了有力支持。
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