在科學研究與工業檢測等領域，對微觀世界的精準觀測和分析至關重要。基恩士 VK-X3000 激光共聚焦顯微鏡，以其出色的性能和豐富的功能，成為眾多科研人員和工程師的得力助手。基恩士VK-X3000激光共聚焦顯微鏡
基恩士 VK-X3000 采用了優良的三重掃描方式，融合激光共聚焦、白光干涉、聚焦變化三種不同的掃描原理。這種獨特的設計，使其能夠根據樣品工件的材料、形狀和測量范圍，靈活選擇最為適配的掃描方式，進而實現高精度測量。無論是高倍率和低倍率的觀測需求，還是平面、凹凸表面的細微粗糙度檢測，亦或是鏡面體、透明體等特殊材料的測量，VK-X3000 都能應對自如。其測量能力覆蓋范圍極廣，從 1nm 的納米級到 50mm 的較大尺寸，真正做到納米 / 微米 / 毫米一臺即可完成測量。
在探測器模塊方面，它配備了 16BIT 光電倍增器以及面陣探測器彩色 CMOS。其中，超高靈敏度光電倍增器能夠實現 16bit 感應，這對于捕捉激光反射并將其轉化為高度信息起著關鍵作用，成功地以高分辨率進行感應，可準確讀取反射率不同的復合材料，測量數據以 16bit（65536 灰度級）進行處理，以往難以看清的細微的顏色和明暗差異都能如實呈現。
載物臺的設計也十分精巧，XY 軸支持電動運行方式，Z 軸支持電動及手動運行方式，操作便捷。載物臺 X/Y/Z 軸最大行程分別為：100mm@X 軸；100mm@Y 軸；50mm@Z 軸，能夠滿足多種尺寸樣品的測量需求。
光源類型包含 661nm 半導體紅色激光（II 類激光）以及白色 LED 光源。在激光共聚焦模式下，不同物鏡展現出優秀的精度表現：10X 物鏡高度重復性精度 σ 為 100nm，寬度重復性精度 3σ 為 400nm；20X 物鏡高度重復性精度 σ 為 40nm，寬度重復性精度 3σ 為 100nm；50X 物鏡高度重復性精度 σ 為 20nm，寬度重復性精度 3σ 為 50nm。聚焦變化模式下，5X 物鏡高度重復性精度 σ 為 500nm，寬度重復性精度 3σ 為 400nm；10X 物鏡高度重復性精度 σ 為 100nm，寬度重復性精度 3σ 為 400nm；20X 物鏡高度重復性精度 σ 為 50nm，寬度重復性精度 3σ 為 120nm；50X 物鏡高度重復性精度 σ 為 30nm，寬度重復性精度 3σ 為 65nm。
所配物鏡的數值孔徑 NA 及工作距離 WD 也各有特點：5X 物鏡，NA≥0.13，WD22.5mm；10X 物鏡，NA≥0.30，WD16.5mm；20X 物鏡，NA≥0.46，WD3.1mm；50X 物鏡，NA≥0.8，WD0.54mm；150X APO 物鏡，NA≥0.95，WD0.2mm；20X 干涉物鏡，WD4.7mm。
在分析功能上，它擁有多達 292 種分析工具，測量軟件不僅能測量高度或尺寸，還能依據用戶的想法，通過多樣的分析工具實現進一步深入分析。比如在粗糙度分析中，能夠將希望了解的表面 “差異" 清晰呈現，定量化微小形狀，輕松比較多個樣品。
在 3D 顯示方面，支持動態三維顯示，可進行 XYZ 三軸旋轉、前后、左右、上下移動，Z 軸還能實現放縮比例顯示，為用戶提供更直觀的微觀結構展示。報告輸出格式也豐富多樣，支持模板報告模式（JPEG/TIF/BMP）、CSV 格式文件輸出以及 Excel 多文件報告格式輸出，方便用戶根據需求選擇。還具備多文件分析功能，可在并列顯示多個掃描結果文件后，針對多個圖像進行一致性分析測量。
基恩士 VK-X3000 激光共聚焦顯微鏡憑借其性能、豐富的功能和便捷的操作，在材料研究、半導體檢測、精密制造等眾多領域都有著廣泛的應用前景，助力各行業深入探索微觀世界的奧秘。基恩士VK-X3000激光共聚焦顯微鏡
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